去蔽——青年艺术家联展（第二回）

“当代水墨”是长久以来太和艺术空间的标签之一，我们专注传统，以及传统的当代阐发，我们深究水墨，但更关注水墨作为一种精神，以及任何以其为内核的作品在当代艺术创作中可能构成的崭新话语，2019年，是“去蔽——青年艺术家联展”的第一回，在当下的2023年，崭新的一年又已开启，我们非常荣幸在这一时刻，为大家带来“去蔽”的第二回展览。

“去蔽”是一个动作，但更是一种状态，从我们对艺术家的发掘与合作，到我们对自身机构主旨的不断重思与定位，“去蔽”不仅代表了我们对青年艺术家鲜锐、有力且持续稳定创作的要求，也是太和自身不断更新、保持鲜活状态的精神准绳。我们将在“去蔽”这一系列中，秉持严谨的学术态度，为大家呈现最具传统积淀但绝不失创新活力与思想锐度的展览与创作。